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蒙自碳化钽TaC涂层
碳化钽涂层是用青岛高泰专有的化学气相沉积(CVD)工艺,在高纯度石墨基底表面气相沉积碳化钽 (TaC)制备而成。
类别:
蒙自半导体应用
产品描述
介绍
碳化钽涂层是用青岛高泰专有的化学气相沉积(CVD)工艺,在高纯度石墨基底表面气相沉积碳化钽 (TaC)制备而成。
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优势
● 卓越的耐热性
● 防止石墨基底颗粒分离、气体及杂质释放
● 出色的抗腐蚀性
应用
● 碳化硅(SiC)单晶生长部件
● 碳化硅外延生长部件
● MOCVD 部件
● 高温部件
性能
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项目 |
单位 |
数值 |
|
厚度 |
μm |
30~50 (可定制) |
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密度 |
Mg/m3 |
14.5 |
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熔点 |
℃ |
3985 |
|
硬度 |
HK |
1550 |
|
电阻率 |
μΩ・m |
0.15 |
|
热导率 |
W/m・K |
9-22 |
|
热膨胀系数 |
10-6/K |
7.1 |
*因目前全面检测涂层的方式有限,上述部分数据源于以下文献,而非保证值
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