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碳化钽TaC涂层
所属分类：
半导体应用
概要：
碳化钽涂层是用青岛高泰专有的化学气相沉积(CVD)工艺，在高纯度石墨基底表面气相沉积碳化钽 (TaC)制备而成。
- 产品描述
-
- 商品名称: 碳化钽TaC涂层
碳化钽涂层是用青岛高泰专有的化学气相沉积(CVD)工艺，在高纯度石墨基底表面气相沉积碳化钽 (TaC)制备而成。
介绍
碳化钽涂层是用青岛高泰专有的化学气相沉积(CVD)工艺，在高纯度石墨基底表面气相沉积碳化钽 (TaC)制备而成。
优势
● 卓越的耐热性
● 防止石墨基底颗粒分离、气体及杂质释放
● 出色的抗腐蚀性
应用
● 碳化硅(SiC)单晶生长部件
● 碳化硅外延生长部件
● MOCVD 部件
● 高温部件
性能
项目
单位
数值
厚度
μm
30~50 (可定制)
密度
Mg/m3
14.5
熔点
℃
3985
硬度
HK
1550
电阻率
μΩ・m
0.15
热导率
W/m・K
9-22
热膨胀系数
10-6/K
7.1
*因目前全面检测涂层的方式有限，上述部分数据源于以下文献，而非保证值
关键词：
碳化钽TaC涂层
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青岛高泰新材料有限公司
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